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爐式合成設(shè)備
產(chǎn)品分類
單溫區(qū)PE-CVD系統(tǒng)采用高性能射頻電源,等離子體更穩(wěn)定;滑軌式結(jié)構(gòu)能使整個反應(yīng)腔室都處于輝光產(chǎn)生區(qū);可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫功能;與傳統(tǒng)CVD相比較,生長溫度更低。
1500單溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件,額定溫度1500℃,溫度可達(dá)1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1℃。設(shè)備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭,雙環(huán)密封技術(shù),可應(yīng)用于CVD實(shí)驗(yàn)、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結(jié)、基片鍍膜等實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
實(shí)驗(yàn)室回轉(zhuǎn)窯本裝置由控制中心,加熱爐主體,攪拌系統(tǒng),平移裝置及進(jìn)氣系統(tǒng)組成
實(shí)驗(yàn)級單溫區(qū)立式管式爐 爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設(shè)備。
微型立式管式爐TFV-1200-30-200是一款小型開啟式立式管式爐,其爐管直徑為φ30/50mm可選,適合于對樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下吊燒和淬火。如果選用不同的配件與裝置搭配,其也可以當(dāng)作一款流化床立式管式爐來使用,可專門針對粉末表面沉積的CVD實(shí)驗(yàn)。
球管玻璃爐BG350以其特殊的設(shè)計(jì)和簡便的操作,為實(shí)驗(yàn)室物料的分離純化工作提供了解決方案。根據(jù)配置的不同,可對小量物料進(jìn)行蒸餾、分餾、升華和冷凍干燥等分離操作。產(chǎn)品使用帶有導(dǎo)電涂層的石英管作為加熱元件,加熱快且易于觀察,可以將整個烘爐區(qū)域加熱到最高300℃。此外,透明的樣品區(qū)域便于進(jìn)行實(shí)時觀察,如果樣品有熱降解的跡象,可手動中斷加熱過程。
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